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１９２２年、エーヌ・サンピエールに生まれる。１９３９年モンの美術学校を卒業する。１９４７年「若きベルギー絵画」のメンバーとなる。１９４８年「コブラ」の創立に加わる。１９５１年「若きベルギー絵画」賞を受賞。１９５２年「抽象絵画」のメンバーになる。１９５４年「空間主義」宣言を発する。１９５３年アンドレ・バルタザールと「デイリー・ブル」を創刊する。１９５５年パリの「運動」展に出品、６１年フランスへ渡る。１９６４年アメリカ旅行。マルゾット賞を受賞。ヴェネチア・ビエンナーレ、カッセル・ドクメンタ３に参加。１９６６年美術批評賞を受賞。１９７０年、カリフォルニアのバークレー大学教授に迎えられる。１９７２年第１１回日本国際美術展に出品。１９７３年ミネアポリス大学から名誉博士号。１９７６年地下鉄ブーズ駅の装飾を手掛ける。１９８２年パリで回顧展。１９８３年パリの国立美術学校のモニュメンタル彫刻科の教授になる。１９８５年パリ国際彫刻グランプリを獲得。１９９３年東北芸術工科大学に作品を設置。（「ベルギー現代美術展」図録　１９９４年）

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オフセットとは？【 美術用語 】

平版印刷の一種。版胴、ゴム・ブランケット、圧胴の３つの円筒が接触しながら回転する三胴仕立の構造で印刷する。３つのローラーによって、インキが移動し、原版の形象が間接的に紙に転写される。版胴には金属平版の版が巻いて取り付けられ、圧胴で用紙を巻き込み、中間にあるゴム・ブランケットによって、版胴の画線部についたインキを仲介して用紙にうつしとる。製版技法の面から言うと、リトグラフ（石版画）と同じ平版である。そのことから、アメリカでは、オフセット・リトグラフと呼ぶこともある。オフセット印刷は、原画を写真撮影し焼き付け製版する電気的化学的処理の過程で網点ができる。この点が、リトグラフと簡単に区別することができる特徴である。オフセットは、主として写真などの複製を工業的に大量高速印刷する場合に用いられている。しかし、作家がオフセットの効果を制作意図に必要なものと認め、作家自身又は作家の監督のもとに制作することで、ひとつの版画技法として生かされている。

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