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１９２７年、ロケレンに生まれる。１９４１年から４８年、ゲントの聖ルカ研究所に、５１年から５４年、アントワープ国立研究所に学ぶ。１９５４年頃より十字、四角形などをテーマとする。１９５６年「若きベルギー絵画」賞を受賞。１９５７年ギャラリー・アクセントで初の個展。１９５８年Ｇ５８の創立に参加。１９５９年第１回パリ青年ビエンナーレに参加、６７年サンパウロ・ビエンナーレに参加、６８年にカッセル・ドクメンタ４に参加する。１９７０年ヴェネチア・ビエンナーレに参加。この頃、油彩を放棄し、テンペラに向かう。ケルンで個展を開催する。１９７６年アムステルダムで個展。１９７４年ブリュッセル、パレ・デ・ボザールで回顧展。１９７９年、Ｓ６５画廊から詩と版画による本を出版。１９８２年ゲント、エインドホーフェン、アムステルダムで回顧展。１９８９年山口、ギャラリー・シマダで個展。（「ベルギー現代美術展」図録　１９９４年）

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オフセットとは？【 美術用語 】

平版印刷の一種。版胴、ゴム・ブランケット、圧胴の３つの円筒が接触しながら回転する三胴仕立の構造で印刷する。３つのローラーによって、インキが移動し、原版の形象が間接的に紙に転写される。版胴には金属平版の版が巻いて取り付けられ、圧胴で用紙を巻き込み、中間にあるゴム・ブランケットによって、版胴の画線部についたインキを仲介して用紙にうつしとる。製版技法の面から言うと、リトグラフ（石版画）と同じ平版である。そのことから、アメリカでは、オフセット・リトグラフと呼ぶこともある。オフセット印刷は、原画を写真撮影し焼き付け製版する電気的化学的処理の過程で網点ができる。この点が、リトグラフと簡単に区別することができる特徴である。オフセットは、主として写真などの複製を工業的に大量高速印刷する場合に用いられている。しかし、作家がオフセットの効果を制作意図に必要なものと認め、作家自身又は作家の監督のもとに制作することで、ひとつの版画技法として生かされている。

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