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１８９０年ドナウ河畔の小都市トゥルンに生まれる。クレムス及びクロスターノイブルクのギムナジウム時代から画才を発揮していたシーレは、１６歳でウィーン造形芸術アカデミーの入学試験に合格する。１９０７年に生涯の師と仰いだＧ．クリムトと出会う。１９０９年、Ｃ．グリーペンケールの保守的な教育に反発し、アカデミーを自主退学。多くの同志と「新芸術集団」を結成する。同年にＪ．ホフマンを知り、彼の紹介でウィーン工房と交渉を持つようになる。１９１０年にはウィーン工房がシーレのデザインによる絵葉書を３枚出版している。１９１２年、ノイレングバッハで「不道徳」「未成年者誘拐」の容疑で短期間の投獄生活をおくる。１９１５年、召集されオーストリア＝ハンガリー軍に入隊。１９１８年の第４９回分離派展でシーレの作品がメイン・ホールを飾り、はじめての大成功をおさめる。同年、スペイン風邪により、ウィーンで歿。（「ホフマンとウィーン工房展」図録　１９９６年）

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オフセットとは？【 美術用語 】

平版印刷の一種。版胴、ゴム・ブランケット、圧胴の３つの円筒が接触しながら回転する三胴仕立の構造で印刷する。３つのローラーによって、インキが移動し、原版の形象が間接的に紙に転写される。版胴には金属平版の版が巻いて取り付けられ、圧胴で用紙を巻き込み、中間にあるゴム・ブランケットによって、版胴の画線部についたインキを仲介して用紙にうつしとる。製版技法の面から言うと、リトグラフ（石版画）と同じ平版である。そのことから、アメリカでは、オフセット・リトグラフと呼ぶこともある。オフセット印刷は、原画を写真撮影し焼き付け製版する電気的化学的処理の過程で網点ができる。この点が、リトグラフと簡単に区別することができる特徴である。オフセットは、主として写真などの複製を工業的に大量高速印刷する場合に用いられている。しかし、作家がオフセットの効果を制作意図に必要なものと認め、作家自身又は作家の監督のもとに制作することで、ひとつの版画技法として生かされている。

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