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１８８５年から１８９５年、ウィーン美術アカデミーで、フランツ・ルムプラーとヨーゼフ・Ｍ．トレンクヴァルトに師事。ミュンヒェンでの研究滞在、イタリア、スイス、フランス、イギリスへの旅行の後、１８９７年から１９０３年、ギムナジウムの美術教師、同時に１８９７年から私立の絵画学校を運営する。１９０３年、ウィーン工芸美術学校に任命され、ここで彼はまず第一に工芸刺繍科、そして美術教師候補者の為の訓練コースを指導した。１９０３年、自分の私立（絵画）学校が、工芸美術学校に組み込まれる（演習・実験クラス、１９１８年からは青年美術クラス）。１９０６年、シチェークは、「一般形態論」分野での教授に就任。この分野の教師として、１６歳以上の生徒と「１９００年前後の様式美（主にウィーン工房）」の装飾の分野の演習を行う。彼の授業は、実験的な試みへと一層突き進んでいった。表現主義の考え方において、装飾的傾向へと推進する試みは−キュービズム（立体派）的、フトゥリズム（未来派）的な刺激の作用のもとで−この専門クラスのスケールを最高のものにした。ドイツのバウハウスにも匹敵する現象のうちの一つである、１９２０年代初頭のウィーン・キネティックアートにおいては、エリカ・ジョヴァンナ・クリーンや、パウル・キルニックなどの何人かの参加者が際立つ存在であった。

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オフセットとは？【 美術用語 】

平版印刷の一種。版胴、ゴム・ブランケット、圧胴の３つの円筒が接触しながら回転する三胴仕立の構造で印刷する。３つのローラーによって、インキが移動し、原版の形象が間接的に紙に転写される。版胴には金属平版の版が巻いて取り付けられ、圧胴で用紙を巻き込み、中間にあるゴム・ブランケットによって、版胴の画線部についたインキを仲介して用紙にうつしとる。製版技法の面から言うと、リトグラフ（石版画）と同じ平版である。そのことから、アメリカでは、オフセット・リトグラフと呼ぶこともある。オフセット印刷は、原画を写真撮影し焼き付け製版する電気的化学的処理の過程で網点ができる。この点が、リトグラフと簡単に区別することができる特徴である。オフセットは、主として写真などの複製を工業的に大量高速印刷する場合に用いられている。しかし、作家がオフセットの効果を制作意図に必要なものと認め、作家自身又は作家の監督のもとに制作することで、ひとつの版画技法として生かされている。

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