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１９３３年東京都に生まれる。１９６０年東京芸術大学油画科を卒業、国画会第３４回展に初出品、国画賞を受賞。この年初の個展を開く。翌年も国画賞、国画会３５周年記念賞、また第３回みずゑ賞選抜作家展準賞、第１回福島賞を受賞。１９６２年東京芸術大学専攻科を修了、国画会会員となる。１９６３年オランダ政府給費留学生としてアムステルダム王立美術学校に留学、１年半の在学の後、７１年まで滞欧を続ける。その間、１９６５年第８回サンパウロ・ビエンナーレの日本代表に選ばれ、６９年オステンド・ヨーロッパ賞展で銅メダル賞を受賞、７１年ベルギー政府主催の滞欧日本人作家展などに出品。１９７１年帰国し愛知県立芸術大学講師、７３年東京芸術大学に移り、８３年教授に就任。１９７９年「明日への具象」展結成に参加、第１回展以降毎年出品。１９８５年第８回東郷青児美術館賞、８８年第６回宮本三郎記念賞を受賞し、同賞受賞記念の大沼映夫展が開催される。（「ピカソと日本」図録　１９９０年）

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オフセットとは？【 美術用語 】

平版印刷の一種。版胴、ゴム・ブランケット、圧胴の３つの円筒が接触しながら回転する三胴仕立の構造で印刷する。３つのローラーによって、インキが移動し、原版の形象が間接的に紙に転写される。版胴には金属平版の版が巻いて取り付けられ、圧胴で用紙を巻き込み、中間にあるゴム・ブランケットによって、版胴の画線部についたインキを仲介して用紙にうつしとる。製版技法の面から言うと、リトグラフ（石版画）と同じ平版である。そのことから、アメリカでは、オフセット・リトグラフと呼ぶこともある。オフセット印刷は、原画を写真撮影し焼き付け製版する電気的化学的処理の過程で網点ができる。この点が、リトグラフと簡単に区別することができる特徴である。オフセットは、主として写真などの複製を工業的に大量高速印刷する場合に用いられている。しかし、作家がオフセットの効果を制作意図に必要なものと認め、作家自身又は作家の監督のもとに制作することで、ひとつの版画技法として生かされている。

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