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きぬたに こうじ 絹谷幸二
1943年奈良県に生まれる。東京芸術大学美術学部油画科、同大学院に学ぶ。1966年第34回独立美術協会展で独立賞を受賞。翌年も連続して独立賞を受賞し、25歳の若さで独立美術協会の会員となるなど早くから注目を集める。大学院在学中から取り組んでいたアフレスコ古典画法を、1971年から73年までのイタリア留学でさらに研究し、ヴェネチア市立美術館で個展を開催するなどイタリア、ユーゴスラビアでその成果を発表。壁画への造詣から、1973年高松塚古墳保存対策委員。1974年第17回安井賞展で安井賞を最年少受賞。各種の展覧会に出品する他、1984年群馬県立近代美術館の「現代絵画の動向」展や1986年富山県立近代美術館の「現代日本美術の動勢」展などに出品するなど現代の具象絵画を代表する作家の一人と目されている。国立児童館・こどもの城の壁画制作や日本画の制作など多方面での活躍も知られ、1987年第19回日本芸術大賞を受賞。同年から東京芸術大学で後進の指導にあたっている。
カテゴリー:作家
オフセットとは?【 美術用語 】 平版印刷の一種。版胴、ゴム・ブランケット、圧胴の3つの円筒が接触しながら回転する三胴仕立の構造で印刷する。3つのローラーによって、インキが移動し、原版の形象が間接的に紙に転写される。版胴には金属平版の版が巻いて取り付けられ、圧胴で用紙を巻き込み、中間にあるゴム・ブランケットによって、版胴の画線部についたインキを仲介して用紙にうつしとる。製版技法の面から言うと、リトグラフ(石版画)と同じ平版である。そのことから、アメリカでは、オフセット・リトグラフと呼ぶこともある。オフセット印刷は、原画を写真撮影し焼き付け製版する電気的化学的処理の過程で網点ができる。この点が、リトグラフと簡単に区別することができる特徴である。オフセットは、主として写真などの複製を工業的に大量高速印刷する場合に用いられている。しかし、作家がオフセットの効果を制作意図に必要なものと認め、作家自身又は作家の監督のもとに制作することで、ひとつの版画技法として生かされている。 |
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