画面下に解説があります。↓

１９２７年広島県に生まれる。２００１年没する。１９５０年京都大学文学部哲学科美学美術史専攻を卒業。１９５２年から５８年頃まで大阪市立美術研究所で彫刻を学ぶ。自由美術展、行動美術展、集団現代彫刻展などに出品。１９６０年福岡道雄、増田正和らと彫刻家集団「場」を結成。１９６２年初の個展を開催。１９６８年増田正和らと日本青年彫刻家シンポジウム（小豆島石彫シンポジウム）を企画。１９７０年オーストリアのサンクト・マルガレーテン彫刻シンポジウムに参加。１９７２年第１回ブルーメール賞を受賞。「現代美術の鳥瞰」展（京都国立近代美術館）に出品。１９７４年第４回神戸須磨離宮公園現代彫刻展に出品、京都国立近代美術館賞受賞（以降同展に出品、受賞多数）。１９７５年第６回現代日本彫刻展（宇部市野外彫刻美術館）に出品、兵庫県立近代美術館賞を受賞（以降同展に出品、受賞多数）。小林睦一郎、増田正和とグループ「環境造形Ｑ」を結成。１９８３年第１４回中原悌二郎賞を受賞。１９８５年環境造形Ｑが本郷新賞を受賞。

いまクリックまたは、検索したキーワードの解説

オフセットとは？【 美術用語 】

平版印刷の一種。版胴、ゴム・ブランケット、圧胴の３つの円筒が接触しながら回転する三胴仕立の構造で印刷する。３つのローラーによって、インキが移動し、原版の形象が間接的に紙に転写される。版胴には金属平版の版が巻いて取り付けられ、圧胴で用紙を巻き込み、中間にあるゴム・ブランケットによって、版胴の画線部についたインキを仲介して用紙にうつしとる。製版技法の面から言うと、リトグラフ（石版画）と同じ平版である。そのことから、アメリカでは、オフセット・リトグラフと呼ぶこともある。オフセット印刷は、原画を写真撮影し焼き付け製版する電気的化学的処理の過程で網点ができる。この点が、リトグラフと簡単に区別することができる特徴である。オフセットは、主として写真などの複製を工業的に大量高速印刷する場合に用いられている。しかし、作家がオフセットの効果を制作意図に必要なものと認め、作家自身又は作家の監督のもとに制作することで、ひとつの版画技法として生かされている。

画面右にこのキーワードの再検索結果が表示されています。そちらもご覧ください。

＜前   次＞