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１９４７年静岡県に生まれる。１９７３年田村画廊（東京）で初個展。１９７４年ヴォルフスブルク市立美術館長クラウス・ホフマンと出会い、７５年に渡独、同美術館で個展を開催。１９７６年よりカッセルに在住。１９８０年から粉末色彩を用いたインスタレーション、８３年からはネガ（陰画）による作品などを発表し、８０年代初頭より国際的に高い評価を獲得した。１９８３年東京国立近代美術館他の「現代美術における写真」展、８６年ゲント（ベルギー）での「シャンブル・ダミ」展、９０年栃木県立美術館の「１９９０　日本の版画・写真・立体［観念の刻印］」展、９２年カッセル（ドイツ）での「ドクメンタ９」などに出品。１９９３年には国内での初の本格的な個展「片瀬和夫−なげるかげ−」が渋谷区立松涛美術館で開催された。１９９４年、ファーレ立川アートプロジェクトに参加し作品を設置。同年、直島コンテンポラリーアートミュージアムの「オープンエアー’９４“ＯＵＴ　ＯＦ　ＢＯＵＮＤＳ”」展、１９９５年広島市現代美術館の「被爆５０周年記念　ヒロシマ以後　現代美術からのメッセージ」展に出品。在外日本人作家として国際的に活躍している。

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オフセットとは？【 美術用語 】

平版印刷の一種。版胴、ゴム・ブランケット、圧胴の３つの円筒が接触しながら回転する三胴仕立の構造で印刷する。３つのローラーによって、インキが移動し、原版の形象が間接的に紙に転写される。版胴には金属平版の版が巻いて取り付けられ、圧胴で用紙を巻き込み、中間にあるゴム・ブランケットによって、版胴の画線部についたインキを仲介して用紙にうつしとる。製版技法の面から言うと、リトグラフ（石版画）と同じ平版である。そのことから、アメリカでは、オフセット・リトグラフと呼ぶこともある。オフセット印刷は、原画を写真撮影し焼き付け製版する電気的化学的処理の過程で網点ができる。この点が、リトグラフと簡単に区別することができる特徴である。オフセットは、主として写真などの複製を工業的に大量高速印刷する場合に用いられている。しかし、作家がオフセットの効果を制作意図に必要なものと認め、作家自身又は作家の監督のもとに制作することで、ひとつの版画技法として生かされている。

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